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2019年11月26日火曜日

INCHEM TOKYO 2019 開催終了

INCHEM TOKYO 2019
化学とプロセスプロセス産業Week
プラントAI&IoTシステム特集

共同出展ブース来場ならびに講演ご参加への御礼

11月20日(水)~22日(金)に幕張メッセにて開催された、INCHEM TOKYO 2019のNEC/日本サイトラインシステムズ共同ブースへのご来場、講演にご参加、誠にありがとうございました。
ご案内いたしました商品・サービスのお問い合わせやご質問は、下記までご連絡ください。

日本サイトラインシステムズお問合せ:


Sightline EDMとインバリアント分析

NEC ファクトリーコンピュータ
NEC講演
 日本サイトラインシステムズ講演

NEC様Sighline EDM紹介サイト:
Sightline EDM 製造業・IIoT向けリアルタイムデータ分析ソリューション
https://jpn.nec.com/soft/sightline/index.html
NECインバリアント分析:
“いつもと違う”を発見し、故障や異常を未然に防ぐ
https://jpn.nec.com/ai/analyze/invariant.html

日本サイトラインシステムズ公式サイト:
https://www.sightlinesystems.co.jp/
SCADA-製造業向けSightline EDM: Sightline EDM for Manufacturing:
IoT/IIoT向け次世代SCADAであるマニュファクチャリング・インテリジェンス・ソリューション
https://www.sightlinesystems.co.jp/product/edm-for-manufacturing/


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2019年11月16日土曜日

INCHEM TOKYO 2019 日本サイトラインシステムズ講演

日本サイトラインシステムズ講演-INCHEM TOKYO 2019

講演:プロセス製造におけるIIoTパフォーマンスマネジメント 


弊社顧問の末次朝彦が、INCHEM TOKYO 2019にて、講演いたします。

講演タイトル

プロセス製造におけるIIoTパフォーマンスマネジメント

講演概要

 日本におけるプロセス製造の現場のデジタルトランスフォーメーションは、
今、始まろうとしています。製造工程の様々なデータをリアルタイムで収集、
分析、可視化し、製造計画に合致する結果を出すべく、品質を許容範囲に
収め、異常事態の予兆を検知し、計画外の製造ラインの停止を避ける、
パフォーマンスマネージメントを実現するSCADAをご紹介します。

講演者

日本サイトラインシステムズ
顧問
末次 朝彦

イベント&セミナー情報

INCHEM TOKYO 2019:
INCHEM TOKYO2019

プラントAI&IoTシステム特集:
プラントAI&IoTシステム特集

セミナー日時: 11月21日(木)
11:15-11:45
セミナー会場: B会場

講演会・セミナーの聴講登録

https://www.jma.or.jp/INCHEM/visit/seminar.html

関連製品情報

日本サイトラインシステムズ公式サイト:

https://www.sightlinesystems.co.jp/

SCADA-製造業向けSightline EDM: Sightline EDM for Manufacturing:

IoT/IIoT向け次世代SCADAであるマニュファクチャリング・インテリジェンス・ソリューション
https://www.sightlinesystems.co.jp/product/edm-for-manufacturing/

2019年11月14日木曜日

Clairvor - Auto RCA

Sightline Clairvor - 根本原因分析の自動化


Clairvorは、複雑なIIoTシステムやITシステムにおいて発生した問題の根本的な原因を早期に特定し迅速かつ的確に対策/除去を行うための根本原因分析(RCA: ルートコーズアナリシス)を自動化する次世代のソリューションです。

Clairvor特徴

  •     高度な相関分析
  •     ドリル・ダウン
  •     可視化/ビジュアライゼーション
  •     関連する複数データ・ソースに対する自動分析
  •     組込まれた問題分析ナレッジ

Clairvor - 明確な原因特定

Clairvorは必要とするときに、IIoTやITシステム環境の最も奥深い深淵で作用している事象を可視化します。
まるで水晶球を覗込み物事の本質かつ根源を見渡す透視/千里眼(Clairvoyance)がごとく、Clairvorはシステム環境全体を見通し、発生した問題が連鎖反応的な悪影響を引起し最悪のシステムダウンに至る前に、根本原因を迅速に分析/診断/解決します。

Clairvorとは、相関分析、ドリル・ダウン、可視化および複数のデータソースからのデータ分析を統合、複雑な根本原因分析方法を自動化することにより、潜在的な原因に対する特定の精度を向上、問題解決に必要な時間を短縮し迅速に解決する方法を提供します。さらにClairvorの記録機能を利用することで、障害時識別段階の解決手順のノートをとることができ、類似障害が再発した場合の解決方法を提供が可能です。問題特定と解決の時間の短縮により、生産性の向上を図ることができます。

透視/千里眼(Clairvoyance)

Clairvor - 根本原因分析の3ステップ

Clairvorは、3つのシンプルなステップでシステム環境に対する根本原因分析(RCA)の支援をします。問題発生の予兆を検知し、アラート発生(トリガーアラート)からほんの数分で診断/分析を行い問題解決の支援を行います。

統合コンソールから、システム担当者が問題により発生したアラートを受けることができます。アラートから迅速にデータ分析し、最も可能性がある原因を特定するため、アラート発生したシステムに対して相関分析した後に、関係する全システムやサブシステムに対して相関分析を行うことが可能です。

Clairvorの記録機能を利用し、アラート発生に対し調査分析した事柄や解決方法を記録することができます。問題発生の最も初期段階からClairvorを利用することにより、問題解決の時間を短縮することが可能です。

相関分析の自動化

根本原因分析(RCA)とは:

https://www.sightlinesystems.co.jp/solution/rca/

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2019年11月13日水曜日

根本原因分析

根本原因分析

根本原因分析(RCA)


根本原因分析(RCA(Root Cause Analysis):ルート・コーズ・アナリシス)あるいは根本問題分析とは、障害や問題の症状に着目するのではなく根本的な原因を特定することに焦点を定めた原因解決プロセスです。

根本問題分析(ルート・コーズ・アナリシス)(RCA: Root Cause Analysis)
事象において単に明確な兆候に単純に対処するのではなく、物事の本質的かつ根本的な原因を明確し除去することにより問題の解決と再発を防ぐプロセス


  • 問題経緯の把握
  • 根本原因の明確化と対策
  • 再発防止策の定義

一般的な対処手順


現在、IT担当スタッフは、原因と結果との因果関係とテストと再現方法を組合わせての試行錯誤を繰返し、IT環境での問題を特定し解決を試みようとします。

システム障害、レスポンスタイム遅延やアラート等の問題の分析や解決を行う一般的なプロセスを記述します。


  1. ユーザからのクレームで問題を認識
  2. ITチームの調査開始
  3. 問題発生の原因らしき箇所の担当責任者に連絡
  4. 担当責任者は問題原因を否定
  5. 問題の原因箇所の特定可能となるまで調査の繰返す
  6. 解決策を適応しテストを繰返す
  7. 問題が解決されるまで本プロセス全体ないし一部を繰返す
  8. 問題に対する原因と解決策をドキュメント化


問題解決に到達まで前記のステップを経験することに費やされる多くの時間と労力は、まるで干草の山の中から一本の針を探し出すがごとく浪費されているのが現実です。

リソース利用やサービス混乱によりコスト負担となるだけではなく、システム障害あるいはアプリケーション不具合による問題によりシステムダウンが発生しサービス提供が停止した場合、そのコストと損害は途方もない金額になる可能性を否定できません。

なぜ問題が発生したのか、
最初に何処で発生したのか、
なぜ早期に発見できなかったのか、
本質的かつ根本的な問題解決に到達までに費やされる多くの時間と労力は、まるで干草の山の中から一本の針を探し出すがごとく浪費されているのが現実です。

干草の山の中から一本の針を探し出す

大規模かつ複雑化するシステムインフラストラクチャ

近年、我々の社会は企業活動や組織運営は、経営戦略を実現するITシステムとその基盤であるITインフラストラクチャ(ITシステム基盤)や、高品質な製品を生産する製造基盤、発電設備等の社会基盤に大きく依存しています。そのためシステム・オペレーション(システム運用管理)は24時間365日(24x365)のITシステム可用性を維持し続けることが必要不可欠な命題となっています。

絶間なく変化する市場ニーズへの対応
収益性の確保と継続的な成功を保証
安定かつ信頼性が担保されたサービスレベルの継続的提供

問題解決に多くの時間と労力が必要

企業や組織が成長/拡大するに伴い、増加かつ複雑化するITインフラストラクチャ(サーバー、クラウド、ネットワーク、ストレージ等)や生産/製造システム基盤における要素間の相互作用を的確に把握し効率的にマネジメントし続けることは困難です。

インフラストラクチャが大規模かつ複雑度が増すに伴い、発生した問題を早期に発見/特定することや短時間に解決/修正することはより困難となり、たとえば特定サーバー上の問題が別サーバー上のアプリケーションへ影響を伝播することや、局所的ネットワーク障害がシステム全体を停止させるケースなど問題の波及する影響度が大きくかつ深刻になっていることも事実です。

これらの現象は、問題に対して早期発見と根本的な対処を行わずに、連鎖発生的に新たな問題を発生させることが起因となる場合に数多く見られます。

根本原因分析(RCA)とは:

根本原因分析ソリューション:

Clairvor - Auto RCA:


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2019年11月11日月曜日

パートナー様講演: デジタル技術の進歩がもたらすプラント監視の高度化と自主保安力の向上


NEC相馬様INCHEM TOKYO 2019にて講演

講演:デジタル技術の進歩がもたらすプラント監視の高度化と自主保安力の向上 


NECシニアインダストリコンサルタントの相馬知也 様が、INCHEM TOKYO 2019会場にて、特別講演されます。

講演タイトル

デジタル技術の進歩がもたらすプラント監視の高度化と自主保安力の向上 

講演概要

ここ数年AI×IoTを中心としたデジタル技術の発展が目覚ましく、その波はプラント運転や設備保全といった創業の現場レベルにも広がっている。国はこれらの技術を活用した自主保安力の向上を掲げ推進しているが、現場レベルでは進んでいないのが現状である。本講演ではNECが検証を通じて聞いた現場での声をもとに、デジタル技術の活用による改善事例や技能伝承、人材育成への適用可能性について紹介する。またデジタル技術の導入における課題や進め方など、講師のコンサルティング経験をもとに紹介する。

講演者

日本電気
コーポレート事業開発本部
シニアインダストリコンサルタント
相馬 知也 様

イベント&セミナー情報

INCHEM TOKYO 2019:
INCHEM TOKYO2019

セミナー日時: 11月20日(水)10:30-11:20
セミナー会場: 第2会場

講演会・セミナーの聴講登録

https://www.jma.or.jp/INCHEM/visit/special.html

関連製品情報

NEC様Sighline EDM紹介サイト:

Sightline EDM 製造業・IIoT向けリアルタイムデータ分析ソリューション
https://jpn.nec.com/soft/sightline/index.html

NECインバリアント分析:

“いつもと違う”を発見し、故障や異常を未然に防ぐ
https://jpn.nec.com/ai/analyze/invariant.html

日本サイトラインシステムズ公式サイト:

https://www.sightlinesystems.co.jp/

SCADA-製造業向けSightline EDM: Sightline EDM for Manufacturing:

IoT/IIoT向け次世代SCADAであるマニュファクチャリング・インテリジェンス・ソリューション
https://www.sightlinesystems.co.jp/product/edm-for-manufacturing/

日本サイトラインWeb告知ページ:

https://www.sightlinesystems.co.jp/2019/11/inchem-tokyo-2019-nec-seminar/
https://www.sightlinesystems.co.jp/2019/11/inchem-tokyo-2019/


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2019年11月8日金曜日

INCHEM TOKYO 2019

INCHEM TOKYO 2019
化学とプロセスプロセス産業Week
プラントAI&IoTシステム特集

INCHEM TOKYO 2019にNEC/日本サイトラインシステムズ共同出展


 産学官連携で化学工業・プロセス産業界すべての情報・人・モノ・金が一堂に会します!
INCHEM TOKYOは、2年に一度開催される、化学産業を中心としたプロセス産業およびプラント設備、エンジニアリング技術等を扱う総合展示会である、INCHEM TOKYOに、弊社パートナーであるNEC様と共同出展いたします。

 大規模・複雑なシステムに設置された多数のセンサから大量の時系列データをリアルタイムに収集、可視化/分析,蓄積を行う「IIoT向けSCADA-製造業向けSightline EDM: Sightline EDM for Manufacturing」、予測されるデータの変化(いつもの状態)と実際のデータを比較することで、異常(いつもと違う状態)を予兆検出する「NEC インバリアント分析」を組み合わせることにより、異常発生個所の特定、重大事故の防止を可能にします。CBM(状態基準保全)を実現し保全の効率化を実現します。

日時: 11月20日(水)、21日(木)、22日(金)
場所: 幕張メッセ
展示ブース: 3B-33 プラントAI&IoTシステム特集

INCHEM TOKYO 2019:
INCHEM TOKYO2019

プラントAI&IoTシステム特集:
プラントAI&IoTシステム特集




NEC様Sighline EDM紹介サイト:
Sightline EDM 製造業・IIoT向けリアルタイムデータ分析ソリューション
https://jpn.nec.com/soft/sightline/index.html
NECインバリアント分析:
“いつもと違う”を発見し、故障や異常を未然に防ぐ
https://jpn.nec.com/ai/analyze/invariant.html

日本サイトラインシステムズ公式サイト:
https://www.sightlinesystems.co.jp/
SCADA-製造業向けSightline EDM: Sightline EDM for Manufacturing:
IoT/IIoT向け次世代SCADAであるマニュファクチャリング・インテリジェンス・ソリューション
https://www.sightlinesystems.co.jp/product/edm-for-manufacturing/

Web Event告知ページ:
https://www.sightlinesystems.co.jp/2019/11/inchem-tokyo-2019/



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